Полупроводники являются неотъемлемой частью нашего современного мира и будут играть решающую роль в будущем. Они составляют основу для развития таких технологий, как смартфоны, компьютеры, электромобили, возобновляемые источники энергии и искусственный интеллект. Терморегулирование играет решающую роль в производстве полупроводников для удовлетворения самых высоких требований к точности и эффективности. Для преодоления проблем, возникающих при производстве микрочипов, LAUDA предлагает инновационные решения в области терморегулирования.
Пластины составляют основу современной электроники. Эти тонкие пластинки из высокочистого полупроводникового материала, такого как кремний, используются в качестве основы для производства микрочипов. Качество и чистота пластин имеют решающее значение для производительности компонентов, размещенных на них.
Найдите подходящее устройство для вашего применения
Вы ищете подходящую систему температурного контроля для полупроводниковой промышленности? Тогда немедленно свяжитесь с нами. Мы будем работать с вами, чтобы найти правильное решение для вашей задачи.
В литографии УФ-излучение проходит через шаблон и уменьшается для создания микроскопического рисунка на пластине с использованием фоторезиста. Материалы расширяются при нагревании и сжимаются при охлаждении. Это также относится к фотошаблонам, объективам экспонирования и пластинам в литографии. Даже незначительные изменения температуры могут изменить размеры структуры на пластине, что может привести к размерным вариациям, влияющим на точность и воспроизводимость проецируемых рисунков.
Генерация лазерного луча производится за счет огромного количества энергии, которое необходимо регулировать в виде отработанного тепла. Надежные циркуляционные охладители, такие как установки LAUDA Ultracool, предотвращают перегрев лазерного модуля.
> LAUDA — ваш партнер в охлаждении лазерного генератора.
На точность столиков для пластин и измерительных систем может влиять работа и последующее выделение тепла. Точное терморегулирование необходимо для предотвращения теплового расширения и обеспечения сохранения точности позиционирования в нанометровом диапазоне.
> LAUDA — ваш партнер в охлаждении столика для пластин.
Из-за высокой мощности излучения и высокой поглощающей способности объектива система должна охлаждаться в значительной степени для поддержания постоянной температуры. Компактные установки LAUDA противодействуют деформации оптики и зеркал, что имеет важнейшее значение для точного экспонирования.
> LAUDA — ваш партнер в охлаждении объективов / зеркал.
Турбомолекулярные насосы, используемые во многих приложениях, состоят из вращающихся лопаток, которые работают с чрезвычайно высокими скоростями для создания высокого вакуума. Эти насосы выделяют тепло вследствие трения, что может привести к повреждению или потере производительности без надлежащего охлаждения. Охлаждение вакуумных насосов помогает поддерживать рабочую температуру в установленных пределах, что имеет важнейшее значение для поддержания требуемого вакуума, а также эффективности и надежности.
> LAUDA — ваш партнер в охлаждении вакуумного насоса.
В производстве полупроводников плазменное травление является основным компонентом удаления материала в производственной последовательности. Плазменное травление, также известное как сухое травление, представляет собой процесс, при котором пластины подвергаются воздействию плазмы в вакуумной камере травления. Пластины бомбардируются ионами в плазме для удаления материала. Температура плазмы влияет на скорость и эффективность процесса травления. В производстве полупроводников важно контролировать температуру плазмы с высокой точностью, поскольку пластины обрабатываются в микрометровом и нанометровом диапазоне. Даже незначительные изменения температуры могут привести к существенным изменениям размера и формы протравленных структур. LAUDA предлагает специально разработанную систему Semistat для этого чувствительного процесса.
Термоэлектрические процессные термостаты от −20 до 90 °C для полупроводниковой промышленности:
Другие преимущества термоэлектрического оборудования для поддержания постоянной температуры
Металлоорганическое химическое осаждение из паровой фазы (MOCVD) является ключевой технологией в производстве светодиодов, лазеров, транзисторов и солнечных элементов. В этом процессе на пластину наносятся чрезвычайно тонкие монокристаллические слои. Процесс нанесения покрытия происходит в реакторной камере при температурах выше 1 000 °C, что требует эффективного отвода тепла. Температура турбомолекулярных насосов для создания вакуума и барботёров, содержащих газообразные прекурсоры, также должна поддерживаться постоянной. LAUDA предлагает обширный ассортимент продукции для различных задач терморегулирования системы MOCVD.
Найдите подходящее устройство для вашего применения
Вы ищете подходящую систему температурного контроля для полупроводниковой промышленности? Тогда немедленно свяжитесь с нами. Мы будем работать с вами, чтобы найти правильное решение для вашей задачи.
CMP — процесс сглаживания поверхности путем комбинирования химических и механических процессов
На различных производственных этапах микрочипа поверхность пластины должна быть отполирована до совершенства. Производители микросхем используют процесс, называемый химико-механической планаризацией (CMP), для достижения этой цели. CMP удаляет и выравнивает избыточный материал на лицевой стороне пластины, оказывая точно выверенное давление на заднюю сторону пластины и прижимая переднюю сторону к вращающемуся полировальнику из специального материала, который также содержит комбинацию химикатов и абразивов. Для обеспечения точности этого процесса температура полировальной жидкости должна быть точно контролируема, а возникающее тепло должно отводиться от шлифовального полировальника, именно здесь вступает в действие оборудование для поддержания постоянной температуры LAUDA.
Точное терморегулирование имеет важнейшее значение для поддержания качества и надежности процесса CMP.
The right temperature ensures that cleaning chemicals work effectively and integrity of the wafer is not compromised.
At the start of the CMP process, the polishing components must be heated to the correct process temperature. The temperature of the components must then be maintained constant during the process to ensure process reliability and prevent any stress on the wafers. The high heating capacity of LAUDA's ITHW systems allow users to quickly reach their desired process temperatures, while the high cooling capacity allows for ample heat dissipation during the polishing process.
The slurry must be maintained at the required temperature to ensure the reaction rate and efficiency of the slurry material.
> LAUDA is your partner for the temperature control of the polishing disc as well as the polishing slurry.
Очистка пластин — удаление химических и твёрдых загрязнений без изменения или повреждения поверхности пластины или подложки
Очистка пластин имеет важнейшее значение для обеспечения высокого выхода годных в производстве полупроводников, поскольку более трети всех производственных этапов посвящено исключительно очистке.
Для современных микросхем памяти, таких как DRAM с технологическим процессом 20 нм, может потребоваться до 200 этапов очистки.
Temperature control technology is essential in ensuring that a constant temperature is maintained during cleaning to optimize the efficiency and effectiveness of the cleaning process. Our advanced temperature control technology minimizes the risk of contamination and improves the reliability of semiconductor products by ensuring a stable process temperature that maintains the integrity of the wafers and ensures the best preparation for subsequent production steps.
Temperature control of wash basins
Process temperature control for preventing wafer stress and maintaining the washing fluid at a perfect temperature.
> LAUDA is your partner for the temperature control of the washing fluid.
В мире производства полупроводников системы быстрой термообработки (RTP) играют жизненно важную роль в производстве высококачественных электронных компонентов. RTP — это процесс, при котором пластины подвергаются чрезвычайно быстрым контролируемым изменениям температуры для того, чтобы вызвать определённые химические и физические изменения в материале. Технология терморегулирования должна быть чрезвычайно точной для правильной адаптации свойств полупроводникового материала. Эффективность и качество этих процессов в значительной степени зависят от производительности технологии терморегулирования. Для соблюдения сложных требований температурных профилей системы RTP используют усовершенствованную технологию терморегулирования, которая также включает системы нагрева и охлаждения
Нагревательные элементы в системах RTP должны быть способны достигать и поддерживать высокие температуры до 1 200 °C всего за несколько секунд.
Столь же важным, как и процесс нагрева, является контролируемое охлаждение пластин после того, как они были нагреты до 1 200 °C в течение короткого времени. Для этой цели динамические установки терморегулирования, такие как серия LAUDA Integral, обеспечивают быстрый отвод тепла без ущерба для качества пластины.
Различные элементы должны охлаждаться в процессе резки пластин для предотвращения термического повреждения и обеспечения высокого качества микросхем. Некоторые элементы, которые могут требовать охлаждения, включают:
Поверхность пластины: Охлаждение предотвращает тепловые повреждения и дефекты в процессе резки.
Резка лезвием: Охлаждение снижает тепло от трения и продлевает срок службы пильного диска.
Компоненты системы: Поддерживает производительность машины путем охлаждения нагревающихся деталей, таких как двигатели и шпиндели.
Струя охлаждающей жидкости: Отводит тепло и удаляет частицы. Особенно важно для резки лезвием.
Системы лазерной резки: Лазерные компоненты требуют охлаждения для поддержания эффективности и точности. Современные системы резки имеют усовершенствованные регуляторы температуры для эффективного высококачественного процесса резки.
Конкретные требования к охлаждению могут различаться в зависимости от используемого процесса резки и должны быть адаптированы для поддержания целостности и чистоты пластины. Современные системы резки включают сложные регуляторы температуры для удовлетворения этих требований.
Системы тестирования микросхем используют оборудование для поддержания постоянной температуры для термического кондиционирования микросхем в процессе тестирования. Это означает, что микросхемы нагреваются до определённых температур для наблюдения за их рабочим поведением в различных термических условиях. Конкретные сценарии, в которых требуется оборудование для поддержания постоянной температуры, включают:
Тесты температурного цикла: Во время этих тестов микросхемы многократно нагреваются и охлаждаются для определения того, как они ведут себя в условиях теплового расширения и сжатия.
Тесты приработки: Это стресс-тесты, при которых микросхемы тестируются при более высоких температурах в течение длительных периодов.
Тесты холода и тепла: Микросхемы подвергаются воздействию экстремальных температур, превышающих нормальные рабочие температуры, для определения их эксплуатационных пределов.
Обеспечение и контроль качества: На производственном этапе производители должны обеспечивать соответствие каждой микросхемы соответствующим требованиям. Оборудование для поддержания постоянной температуры используется для обеспечения постоянной и контролируемой температурной среды, необходимой для получения точных воспроизводимых результатов тестирования.
Терморегулирование имеет важнейшее значение для обеспечения надежной работы микросхем в различных условиях, особенно в применениях, где температурные колебания являются обычным явлением, таких как автомобильная промышленность, аэрокосмическая отрасль и бытовая электроника. Современные системы терморегулирования должны быть чрезвычайно точными и способными быстро реагировать на изменения для обеспечения того, чтобы циклы тестирования оставались эффективными и результативными.
Температурные тесты ЦП — системы охлаждения для высоких стандартов контроля качества
Полупроводниковая промышленность устанавливает наивысшие стандарты точности и надежности, особенно когда речь идет об обеспечении качества ЦП. После производства эти мощные микросхемы должны пройти ряд требовательных тестов для обеспечения их правильного функционирования в различных условиях. Одним из ключевых аспектов этого процесса являются температурные тесты, проводимые в специально разработанных климатических камерах. Эти камеры используют инновационные технологии охлаждения для создания постоянных прецизионных условий тестирования.
ЦП монтируются непосредственно на радиаторы Пельтье, которые служат в качестве первичных охлаждающих устройств. Эта технология гарантирует чрезвычайно точное регулирование температуры, что имеет важнейшее значение для получения значимых результатов тестирования. Для противоохлаждения этих первичных охлаждающих устройств воздушно-охлаждаемые циркуляционные охладители используются в качестве вторичных охлаждающих устройств для нескольких климатических камер. Эти системы обеспечивают необходимую охлаждающую воду и гарантируют, что условия тестирования остаются стабильными в течение длительных периодов времени. Высокая надежность и долговечность циркуляционных охладителей LAUDA имеют решающее значение для обеспечения бесперебойного проведения процедур тестирования.
Найдите подходящее устройство для вашего применения
Руководствуясь принципом «модульного конструирования», компания LAUDA проектирует и изготавливает установки в точном соответствии с пожеланиями клиентов: процессно-ориентированные, узкоспециализированные и отличающиеся точностью регулировки, с соблюдением строгих стандартов безопасности.
О том, какие устройства и решения мы можем предложить вам в полупроводниковой промышленности, вы можете узнать из нашей новой брошюры.
Ответьте на несколько вопросов, и на следующем этапе мы разработаем для вас индивидуальную систему термостатирования.
Ищете измерительные приборы, идеально объединяющие в себе точность, надежность и долговечность?
В вашем сравнительном списке уже есть три продукта.
Для сравнения других продуктов удалите один из продуктов в вашем сравнительном списке.
