POU

Termostatos de proceso termoeléctricos para la industria de los semiconductores desde -20 hasta 90 °C

El sistema de regulación de temperatura termoeléctrico Point-of-Use (POU) ofrece una regulación de la temperatura reproducible para aplicaciones de grabado por plasma. Este sistema procura una regulación dinámica de la temperatura del porta obleas electrostático (ESC) y puede utilizarse en combinación con todo tipo de procesos de grabado. Los sistemas termoeléctricos de regulación de la temperatura LAUDA-Noah POU se basan en los conocidos principios de eficacia probada de la transmisión del calor. El uso de estos elementos permite una regulación rápida y precisa de la temperatura necesaria para los procesos exigentes en torno a la fabricación de componentes cada vez más pequeños.

El uso de sistemas de regulación de temperatura Point-of-Use (POU) permite reducir el consumo de energía hasta un 90 % con respecto a sistemas basados en compresores. El espacio necesario mínimo junto a la posibilidad de realizar una instalación bajo el suelo en el punto de uso minimiza la ocupación del espacio limpio. Gracias a una regulación rápida y precisa de la temperatura de los perfiles de temperatura del proceso con una exactitud de ±0,1 °C se logra una homogeneidad "Wafer-to-Wafer" mejorada.

Rango de temperatura de trabajo mín.

- 20 °C

Rango de temperatura de trabajo máx.

90 °C

POU 3300 POU 3500
Temperatura de trabajo mín. -20 °C -20 °C
Temperatura de trabajo máx. 90 °C 90 °C
Potencia de frío a 20 °C 1.2 kW 2.5 kW
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